Con un investimento da 50 miliardi di yen, il nuovo impianto di Utsunomiya triplicherà la produzione di macchine litografiche. L’obiettivo è spingere la tecnologia Nanoimprint per competere con ASML nel settore dei chip avanzati.
In un momento di rapida espansione per l’industria dei semiconduttori, Canon risponde con una mossa strategica di grande portata. L’azienda giapponese ha inaugurato una nuova fabbrica a Utsunomiya, la prima in 21 anni, dedicata principalmente alla produzione di sistemi di litografia. Con un investimento di 50 miliardi di yen, la nuova struttura è stata presentata alla stampa come la chiave per rafforzare la posizione di Canon nel mercato globale e, soprattutto, per rilanciare la sua sfida nel settore dei chip più avanzati.
L’impianto, che si estende su una superficie totale di 67.518 metri quadrati, inizierà le operazioni a settembre con l’obiettivo di raggiungere la piena capacità produttiva entro il 2027. Una volta a regime, la sua produzione si sommerà a quella degli altri due stabilimenti di Canon, superando un totale di 300 unità all’anno. Questa espansione risponde direttamente alla crescente domanda di attrezzature per la produzione di semiconduttori, guidata dalla diffusione dell’intelligenza artificiale e di altre tecnologie emergenti.
La sfida ai chip avanzati con la litografia Nanoimprint
Mentre Canon detiene una solida quota di mercato in termini di unità vendute (circa il 30% nel 2024, seconda solo ad ASML), il dominio nel settore dei semiconduttori avanzati appartiene quasi esclusivamente ad ASML con i suoi sistemi a litografia a ultravioletto estremo (EUV). È qui che Canon punta a cambiare le carte in tavola.
La nuova fabbrica di Utsunomiya non produrrà solo attrezzature convenzionali, ma sarà il fulcro per la produzione in massa dei sistemi di litografia a nanoimpronta (Nanoimprint Lithography – NIL). A differenza dei sistemi tradizionali che usano la luce per proiettare i pattern, il NIL di Canon funziona come un timbro, imprimendo direttamente i circuiti sul wafer. Questo metodo semplifica notevolmente il processo di produzione, riducendo sia i costi che il consumo energetico, e permette di raggiungere nodi di processo molto spinti, fino a 2 nanometri, come già annunciato dall’azienda.
Canon vede nel NIL la sua chiave d’accesso al segmento dei chip di prossima generazione. La produzione di massa di questa tecnologia mira a offrire un’alternativa strategica ai produttori di chip, che sono alla ricerca di soluzioni più economiche e sostenibili per i nodi avanzati.
Un mercato in forte espansione
Il timing di questo investimento non è casuale. Il mercato globale dei semiconduttori sta vivendo una fase di boom, spinto dalla domanda di AI e da altri fattori. Secondo il WSTS (World Semiconductor Trade Statistics), si prevede una crescita dell’8,5% su base annua nel 2026, raggiungendo circa 760 miliardi di dollari. Alcune stime indicano addirittura che il mercato potrebbe superare i 1.000 miliardi di dollari entro il 2030, evidenziando il ruolo sempre più centrale dei semiconduttori nell’economia globale.
L’investimento di Canon si inserisce in un contesto in cui il Giappone vanta già una forte competitività nelle attrezzature per la produzione di semiconduttori, con esportazioni record che hanno raggiunto i 4.496 miliardi di yen nel 2024. Come affermato da Fujio Mitarai, CEO di Canon, all’inaugurazione: “L’importanza dei semiconduttori sta crescendo. È nostro dovere rafforzare il nostro sistema per garantire una fornitura stabile di attrezzature”.
